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增加吸光
使用強(qiáng)堿腐蝕硅片表面形成規(guī)則金字塔狀紋面,增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收,降低反射率。
增加硅片比表面積
增加硅片比表面積,進(jìn)而 PN 結(jié)面積也相應(yīng)增加。
| 功能 | 1. 去除切割損傷層和表面臟污 2. 使用強(qiáng)堿腐蝕硅片表面形成規(guī)則金字塔狀紋面,增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收,降低反射率 3. 增加硅片表面積,進(jìn)而 PN 結(jié)面積也相應(yīng)增加 |
| 產(chǎn)能 | ≥16000PCS/h (6 籃 182); ≥12000PCS/h (4 籃 182) ≥13500PCS/h(6 籃 210); ≥10000PCS/h (4 籃 210) 碎片率 ≤0.01% Uptime ≥98% |
| 優(yōu)勢(shì) | 1.進(jìn)口 PLC 控制, 兼容 MES, UPS 和 RFID 功能 2.機(jī)械手分配合理, 有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時(shí) 3.工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式, 能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆? 槽內(nèi)控溫精度誤差 < ±1℃ 4.所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì), 避免材料雜質(zhì)析出, 引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝, 保證硅片表面的潔凈度; 5.斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu), 有效提升脫水能力, 匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì); 6.采用低溫烘干技術(shù), 保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。 |
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大連基地:遼寧省大連市甘井子區(qū)營(yíng)日路40號(hào)
無(wú)錫基地:江蘇省無(wú)錫市錫山區(qū)涇虹路15號(hào)
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